武汉晶源环境工程有限公司与日本富士化水工业株式会社、华阳电业有限公司侵犯发明专利权纠纷一案福建省高级人民法院民事判决书
武汉晶源公司涉外专利案研讨会
在国务院发布《国家知识产权战略纲要》的背景下,通过多角度对武汉晶源环境工程有限公司涉外专利侵权案件的分析、研讨,向全社会宣传知识产权制度在建设创新型国家、提升企业核心竞争力、打造拥有自主知识产权支柱产业中s的重要作用,同时,引导广大企业制定、实施知识产权战略,积极参与全球经济竞争。
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背景资料
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我国环保领域涉外专利大案武汉企业胜诉
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武汉晶源环境工程有限公司概要
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晶源维权大事记
武汉晶源公司涉外专利案研讨会专家观点
中国专利保护协会副会长兼秘书长
胡佐超
上海大学知识产权学院教授
陶鑫良
华中科技大学知识产权战略研究院院长
朱雪忠
中南财经政法大学知识产研究中心常务副主任 曹新民
中国社会科学研究院
研究员李顺德
中南财经政法大学
校长吴汉东
省知识产权局原局长
解振邦
武汉市人民政府
副秘书长唐惠虎
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中国专利保护协会副会长兼秘书长 胡佐超
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上海大学知识产权学院教授 陶鑫良
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华中科技大学知识产权战略研究院院长 朱雪忠
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中南财经政法大学知识产研究中心常务副主任 曹新民
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中国社会科学研究院研究员 李顺德
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中南财经政法大学校长 吴汉东
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省知识产权局原局长 解振邦
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武汉市人民政府副秘书长 唐惠虎
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华中科技大学知识产权战略研究院院长-朱雪忠
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上海大学知识产权学院教授-陶鑫良
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中南财经政法大学知识产研究中心常务副主任-曹新民
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中南财经政法大学校长-吴汉东
文字报道
现场图片
武汉晶源公司涉外专利案研讨会现场
国家知识产权局办公室宣传处调研员-孙萍萍
武汉市知识产权局局长-董宏伟
讨会现场观看幻灯片
现场记者媒体采访
中国专利保护协会副会长兼秘书长 胡佐超
现场记者媒体提问
中国社会科学研究院研究员-李顺德
媒体报道
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主办单位:武汉知识产权研究会 中南财经政法大学知识产权研究中心
规模:国内知名专家、学者、政府高层人士、企业负责人约40人参加会议。
会议时间:2008年7月5日(周六)下午14:00
会议地点:武汉市知识产权局多功能厅(武汉市江汉区发展大道164号武汉科技大厦12楼)